Plasmatechnologie

FUJIFILM werkt aan de ontwikkeling van een plasmatechnologie onder atmosferische druk. Dit is een unieke techniek waarbij een dunne barrièrelaag wordt opgedampt op een kunststoffolie. Dit gebeurt in toegevoerd geïoniseerd gas in combinatie met chemicaliën door ontlading. Met deze technologie worden van goedkope kunststof folies hoogwaardige superbarrière folies gemaakt. Deze ontwikkeling moet leiden tot een zeer kosten efficiënte rol-tot-rol-productie van deze barrièrefilms.

Het eindproduct kan bijvoorbeeld dienen als waterdampdicht-afdekfolie op zonnecellen en andere plastic-elektronica producten, dit om de levensduur van deze producten te verlengen.
Voor de ontwikkeling van plasmatechnologie werkt Fujifilm onder meer samen met de Technische Universiteit Eindhoven.